[发明专利]低频防绕射声屏障顶部降噪结构在审
申请号: | 201810245418.7 | 申请日: | 2018-03-23 |
公开(公告)号: | CN108396668A | 公开(公告)日: | 2018-08-14 |
发明(设计)人: | 蔡俊 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | E01F8/00 | 分类号: | E01F8/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及低频防绕射声屏障顶部降噪结构,由护面板(1)、腔体(2)、扩散体结构(3)构成,护面板(1)与所述的扩散体(3)连结形成复合结构,腔体(2)开设在所述的扩散体结构(3)内,扩散体结构(3)连接在声屏障屏体(5)的顶部。与现有技术相比,本发明能有效降低声屏障顶端的低频绕射声能,扩大声屏障后方声影区的范围,提高声屏障结构的降噪效果,适用于任何需要防低频绕射的噪声控制场所和环境。 | ||
搜索关键词: | 扩散体 降噪结构 绕射声 屏障 腔体 绕射 声屏障顶端 声屏障结构 复合结构 噪声控制 扩大声 声屏障 声影区 降噪 屏体 声能 连结 | ||
【主权项】:
1.低频防绕射声屏障顶部降噪结构,其特征在于,该降噪结构由护面板(1)、腔体(2)、扩散体结构(3)构成,所述的护面板(1)与所述的扩散体(3)连结形成复合结构,所述的腔体(2)开设在所述的扩散体结构(3)内,所述的扩散体结构(3)连接在声屏障屏体(5)的顶部。
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