[发明专利]低频防绕射声屏障顶部降噪结构在审

专利信息
申请号: 201810245418.7 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108396668A 公开(公告)日: 2018-08-14
发明(设计)人: 蔡俊 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: E01F8/00 分类号: E01F8/00
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 陈亮
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及低频防绕射声屏障顶部降噪结构,由护面板(1)、腔体(2)、扩散体结构(3)构成,护面板(1)与所述的扩散体(3)连结形成复合结构,腔体(2)开设在所述的扩散体结构(3)内,扩散体结构(3)连接在声屏障屏体(5)的顶部。与现有技术相比,本发明能有效降低声屏障顶端的低频绕射声能,扩大声屏障后方声影区的范围,提高声屏障结构的降噪效果,适用于任何需要防低频绕射的噪声控制场所和环境。
搜索关键词: 扩散体 降噪结构 绕射声 屏障 腔体 绕射 声屏障顶端 声屏障结构 复合结构 噪声控制 扩大声 声屏障 声影区 降噪 屏体 声能 连结
【主权项】:
1.低频防绕射声屏障顶部降噪结构,其特征在于,该降噪结构由护面板(1)、腔体(2)、扩散体结构(3)构成,所述的护面板(1)与所述的扩散体(3)连结形成复合结构,所述的腔体(2)开设在所述的扩散体结构(3)内,所述的扩散体结构(3)连接在声屏障屏体(5)的顶部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学,未经上海交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810245418.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top