[发明专利]一种综合式物理化学实验台

摘要

本发明涉及一种综合式物理化学实验台，包括机台，以及依次设置在机台上的化学制胶系统、物理干胶系统、物理破碎系统、高温烧结系统，所述机台上设置有控制面板和置罐槽；本发明的实验台集各个制备工序于一体，是陶瓷粉体制备的一体化综合式物理化学实验台，同时适用于科研工作及教学示范。本发明的实验台可进行统一标准化作业，将纳米陶瓷粉末的工艺技术完成的呈现出来并进行量化操作，满足现今的科研及教学需求。本发明的实验台可分多道制备工序同时进行，能够制备大量的陶瓷粉体，有利于实验的高效开展及进行，操作简单，生产效率高，产品质量高。

主权项

1.一种综合式物理化学实验台，其特征在于，包括机台(1)，以及依次设置在机台(1)上的化学制胶系统、物理干胶系统、物理破碎系统、高温烧结系统，所述机台(1)上设置有控制面板(101)和置罐槽(102)；所述化学制胶系统包括位移轨道(2)、位移车(201)、控制器一(3)、温度控制臂(301)、加热棒(302)、转动环形套(303)、胶体罐(4)、出胶口(401)、控制器二(5)、剪切机架(501)、混料斗(502)、旋转控制架(6)、原料斗(601)、支撑台(602)、限速滤板(603)、滑动开合门(604)、混料阵列杆(605)、出料口(606)；所述位移轨道(2)设置在机台(1)上，所述位移轨道(2)上设置有位移车(201)，所述位移车(201)顶部依次固定设置有控制器一(3)、控制器二(5)、旋转控制架(6)，所述旋转控制架(6)的转轴上设置有多个原料斗(601)，所述原料斗(601)内上部通过支撑台(602)设置有限速滤板(603)，所述原料斗(601)内下部设置有混料阵列杆(605)，所述限速滤板(603)与混料阵列杆(605)之间的原料斗(601)上设有滑动开合门(604)，原料斗(601)底部与出料口(606)连通，所述混料斗(502)位于出料口(606)正下方，所述混料斗(502)通过剪切机架(501)与控制器二(5)连接，所述剪切机架(501)一端设置有剪切风扇且剪切风扇设置在混料斗(502)内，所述胶体罐(4)位于混料斗(502)正下方，所述转动环形套(303)套设在胶体罐(4)外部，所述转动环形套(303)与控制器一(3)连接，所述控制器一(3)两侧连接有温度控制臂(301)，所述温度控制臂(301)与设置在胶体罐(4)内的加热棒(302)连接，胶体罐(4)底部设置有多个出胶口(401)；所述物理干胶系统包括X轴滑轨(7)、Y轴滑轨(701)、偏转关节(702)、蒸发板(703)、导热接口(704)、加热电机(8)、导热杆(801)、接胶口(9)、储胶罐(901)、涂胶嘴(902)、控制阀(10)、气管(1001)、软管(1002)、泵机(1003)、电源箱(1004)、支架(11)、Z轴行车(1101)、X轴行车(1102)、Y轴行车(1103)、滑动风机(1104)；所述接胶口(9)设置在出胶口(401)一侧，接胶口(9)与储胶罐(901)连接，所述储胶罐(901)下端设置有涂胶嘴(902)，储胶罐(901)上端通过气管(1001)与控制阀(10)连接，所述控制阀(10)与泵机(1003)连接，所述泵机(1003)与电源箱(1004)连接并位于其上方，所述电源箱(1004)设置在机台(1)一侧，所述控制阀(10)一端设置有软管(1002)，软管(1002)一端与滑动风机(1104)连接，所述滑动风机(1104)设置在Y轴行车(1103)上，Y轴行车(1103)两端设置在两个X轴行车(1102)上，X轴行车(1102)两端分别与Z轴行车(1101)连接，所述Z轴行车(1101)设置在支架(11)上，所述支架(11)设置在机台(1)另一侧，所述蒸发板(703)位于涂胶嘴(902)下方，所述蒸发板(703)设置在偏转关节(702)顶部，所述偏转关节(702)设置在Y轴滑轨(701)上，所述Y轴滑轨(701)两端设置在两个X轴滑轨(7)上，所述X轴滑轨(7)设置在机台(1)上，所述蒸发板(703)两侧设置有导热接口(704)，所述机台(1)两侧分别设置有加热电机(8)，加热电机(8)上连接有导热杆(801)，导热杆(801)与导热接口(704)一侧对应；所述物理破碎系统包括机框(12)、调节滑轨(1201)、高度调节杆(1202)、震动面板(1203)、破碎锥(1204)、收集漏斗(13)、破碎管道(1301)、绞轴刀(1302)、前刀座(1303)、后刀座(1304)、球磨腔(14)、公转台(1401)、转距调节臂(1402)、自转基座(1403)、球磨罐(1404)、球磨控制面板(1405)；所述机框(12)设置在位于X轴滑轨(7)一端的机台(1)上，所述调节滑轨(1201)设置在机框(12)顶梁上，所述高度调节杆(1202)设置在调节滑轨(1201)上，所述震动面板(1203)与高度调节杆(1202)下端连接，所述震动面板(1203)上均匀设置有多个破碎锥(1204)，所述收集漏斗(13)设置在位于X轴滑轨(7)一端下方的机台(1)上，所述收集漏斗(13)底端与破碎管道(1301)连接，所述破碎管道(1301)内设置有绞轴刀(1302)，所述绞轴刀(1302)一端伸出破碎管道(1301)与前刀座(1303)连接，所述绞轴刀(1302)另一端伸出破碎管道(1301)与后刀座(1304)连接，所述破碎管道(1301)的出料口与置罐槽(102)位置对应，所述置罐槽(102)用于放置球磨罐(1404)，所述球磨腔(14)设置在位于破碎管道(1301)一端的机台(1)上，所述公转台(1401)设置在球磨腔(14)内中心，所述公转台(1401)上通过多个转距调节臂(1402)分别连接有多个自转基座(1403)，所述自转基座(1403)上用于放置球磨罐(1404)，所述球磨控制面板(1405)设置在球磨腔(14)下方的机台(1)上；所述高温烧结系统包括烧结炉(15)、隔热门(1501)、加热元件(1502)；所述烧结炉(15)设置在位于球磨腔(14)一端的机台(1)上，所述烧结炉(15)一侧设置有隔热门(1501)，烧结炉(15)内设置有多个加热元件(1502)。