[发明专利]用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器及其制备方法在审
申请号: | 201810251477.5 | 申请日: | 2018-03-26 |
公开(公告)号: | CN108321244A | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 吴正云 | 申请(专利权)人: | 厦门芯荣光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/105 | 分类号: | H01L31/105;H01L31/18 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器及其制备方法,涉及紫外光电探测器。探测器为p‑i‑n外延结构,在衬底的Si面上外延生长N型SiC缓冲层并作为p‑i‑n的N型欧姆接触层,在N型SiC缓冲层上外延生长i型层并作为光子吸收层,在i型层上外延一层P+型层并构成紫外探测芯片的p‑i‑n结构;在P+型层的钝化层上刻蚀P型电极窗口并设有P型电极和焊盘;在N型SiC缓冲层的钝化层上刻蚀N型电极窗口并设有N型电极与焊盘。对外延片清洗;先后制备隔离保护倾斜台面,红外信号的透过窗口,SiO2钝化层,P型电极、N型电极、P型焊盘和N型焊盘,红外抗反射层,得用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器。 | ||
搜索关键词: | 紫外光电探测器 缓冲层 双色 制备 探测 外延生长 钝化层 焊盘 刻蚀 光子吸收层 隔离保护 红外信号 抗反射层 倾斜台面 紫外探测 探测器 衬底 延片 清洗 芯片 | ||
【主权项】:
1.用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于为p‑i‑n外延结构,衬底采用双抛4H‑SiC衬底,在双抛4H‑SiC衬底的Si面上外延生长N型SiC缓冲层,所述N型SiC缓冲层作为p‑i‑n的N型欧姆接触层,在N型SiC缓冲层上外延生长i型层,所述i型层作为器件的光子吸收层,在i型层上外延一层P+型层并构成紫外探测芯片的p‑i‑n结构;在P+型层的钝化层上刻蚀P型电极窗口,所述P型电极窗口上设有P型电极和P型焊盘;在N型SiC缓冲层的钝化层上刻蚀N型电极窗口,在N型电极窗口上设有N型电极与N型焊盘。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门芯荣光电科技有限公司,未经厦门芯荣光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810251477.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的