[发明专利]用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810251477.5 申请日: 2018-03-26
公开(公告)号: CN108321244A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 吴正云 申请(专利权)人: 厦门芯荣光电科技有限公司
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 福建省厦门*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器及其制备方法,涉及紫外光电探测器。探测器为p‑i‑n外延结构,在衬底的Si面上外延生长N型SiC缓冲层并作为p‑i‑n的N型欧姆接触层,在N型SiC缓冲层上外延生长i型层并作为光子吸收层,在i型层上外延一层P+型层并构成紫外探测芯片的p‑i‑n结构;在P+型层的钝化层上刻蚀P型电极窗口并设有P型电极和焊盘;在N型SiC缓冲层的钝化层上刻蚀N型电极窗口并设有N型电极与焊盘。对外延片清洗;先后制备隔离保护倾斜台面,红外信号的透过窗口,SiO2钝化层,P型电极、N型电极、P型焊盘和N型焊盘,红外抗反射层,得用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器。
搜索关键词: 紫外光电探测器 缓冲层 双色 制备 探测 外延生长 钝化层 焊盘 刻蚀 光子吸收层 隔离保护 红外信号 抗反射层 倾斜台面 紫外探测 探测器 衬底 延片 清洗 芯片
【主权项】:
1.用于紫外红外双色探测的紫外光电探测器,其特征在于为p‑i‑n外延结构,衬底采用双抛4H‑SiC衬底,在双抛4H‑SiC衬底的Si面上外延生长N型SiC缓冲层,所述N型SiC缓冲层作为p‑i‑n的N型欧姆接触层,在N型SiC缓冲层上外延生长i型层,所述i型层作为器件的光子吸收层,在i型层上外延一层P+型层并构成紫外探测芯片的p‑i‑n结构;在P+型层的钝化层上刻蚀P型电极窗口,所述P型电极窗口上设有P型电极和P型焊盘;在N型SiC缓冲层的钝化层上刻蚀N型电极窗口,在N型电极窗口上设有N型电极与N型焊盘。
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