[发明专利]铬铝钛氮合金涂层及制备方法有效
| 申请号： | 201810253112.6 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN108517492B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 米文博;刘国柱 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300072 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明专利涉及一种铬铝钛氮合金涂层及制备方法；基底为单面抛光的GH3128高温合金基底，基底厚度为1.5mm，基底面积为10mm×10mm，铬铝钛氮合金涂层厚度为1.2μm。本发明从工业化生产角度和实际应用角度出发，利用对向靶磁控溅射法制备表面厚度均一、晶粒尺寸均一、薄膜与基底紧密结合、工艺重复性好的铬铝钛氮合金涂层；在溅射电流为0.25A、溅射电压为500V、基底温度为250℃、N：Al：Cr：Ti原子比为4：3：2：2时，制备的铬铝钛氮合金涂层表面厚度均一并且具有最好的平整度。能够非常好的覆盖试件，避免试件表面金属对结焦形成起到促进作用；在工业化生产上具有明显优势。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 钛氮合金 铬铝 制备 厚度均一 工艺重复性 晶粒 尺寸均一 磁控溅射 促进作用 单面抛光 高温合金 溅射电压 试件表面 涂层表面 对向靶 平整度 原子比 结焦 试件 薄膜 金属 覆盖 应用 | ||
【主权项】：
1.一种铬铝钛氮合金涂层的制备方法，其特征是步骤如下：/n1)采用超高真空对向靶磁控溅射镀膜机，在对向的靶头上安装一对纯度为99.9％的Cr
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