[发明专利]一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法

摘要

一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法，用于有效的提高线路板光刻中基板的曝光处理速度。具体包括以下步骤：1、PC端读取BMP位图，并将读取到的图片发至数字微镜DMD控制设备；2、根据数字微镜DMD个数和分布情况，对BMP位图进行填补处理；3、计算每个DMD曝光停顿的关键点图片坐标信息，并存储至容器；4、将计算后的数据信息发送至DMD控制端；5、根据曝光停顿点位置控制数字微镜DMD移动并实现大面积曝光。本发明采用"盖章式"分布曝光，可以大幅度提高大面积图形曝光的曝光速率，采用HDMI进行图片传输，降低对投影设备内存的要求，节省成本，同时使得曝光时长更容易控制。

主权项

1.一种用于无掩模光刻扫描的分布式曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、读取BMP位图，并将读取到待曝光的图片发至DMD控制设备；所述的BMP位图是指由PCB制版中的描述电路信息的Gerber文件转换成的BMP格式的位图；步骤2、根据DMD分组个数和分布情况，对BMP位图进行填补预处理，图片预处理是指根据曝光特征，利用图像处理技术将待曝光图片预处理为投影图像的整数倍，填补区域采用不影响曝光效果的黑色进行填充，处理方式如下：1)确定DMD分布为m*n组，然后对BMP位图进行填补预处理，假设投影图片尺寸宽为w、高h，BMP位图尺寸宽W、高H，则需保证处理后的W/w、H/h分别为m、n的整数倍；2)图片填补处理需采用黑色进行填补，黑色区域不进行曝光，以保证不影响整体曝光效果；步骤3、根据步骤2中处理后的图片尺寸，计算每个DMD曝光停顿的关键点图片坐标信息，并存储至m×n个容器中作为待发送数据信息，用于后面控制每个DMD的运动轨迹；步骤4、将步骤3中计算后的数据信息，通过485总线发送至每个DMD控制设备，方便后面对曝光图片特定区域的读取和DMD轨迹的控制；步骤5、解析步骤4中DMD控制设备接收到数据信息与控制指令，根据曝光停顿关键点位置信息，以及DMD投影面积尺寸，来确定当前需要读取BMP位图的区域，并通过HDMI接口将该图片发送给DMD，从而实现大面积曝光。