[发明专利]一种三材料异质栅结构的黑磷场效应管在审

专利信息
申请号: 201810258145.X 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108447912A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 沈志豪;赵剑飞;江斌;王伟 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/49
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 吕朦
地址: 210003 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种三材料异质栅结构的黑磷场效应管,包括导电沟道、源区、漏区、栅极氧化层、源极、漏极、栅极;所述的导电沟道、源区和漏区均采用黑磷材料制作,在所述的导电沟道、源区和漏区外有栅极氧化层,在栅极氧化层外再沉淀一层金属电极,作为栅极,所述的栅极采用三种不同功函数的导电金属制作,形成三材料异质栅结构的黑磷场效应管的异质栅,基于非平衡格林函数的方法,本发明给出了异质栅功函数的分配规则。当三种材料的功函数从源极向漏极逐步减小,或是中间功函数最大,靠漏极一侧功函数最小时,该种结构能有效的改善性能,具有更低的泄漏电流,更高的电流开关比,更能抑制漏致势垒降低效应。
搜索关键词: 异质 功函数 黑磷 栅极氧化层 场效应管 导电沟道 栅结构 漏极 漏区 源区 源极 漏致势垒降低效应 电流开关比 导电金属 分配规则 改善性能 金属电极 泄漏电流 栅功函数 逐步减小 非平衡 再沉淀 格林 制作
【主权项】:
1.一种三材料异质栅结构的黑磷场效应管,其特征在于,包括:导电沟道(1)、源区(2)、漏区(3)、栅极氧化层(4)、源极(5)、漏极(6)、栅极(7);所述的导电沟道(1)、源区(2)和漏区(3)采用一本征半导体黑磷,导电沟道(1)位于源区(2)和漏区(3)之间,对本征半导体黑磷的两端采用分子或金属离子进行重掺杂后,分别作为源区(2)、漏区(3);在所述的导电沟道(1)、源区(2)和漏区(3)外,生成一层栅极氧化层(4),在栅极氧化层(4)外再沉淀一层金属电极,作为栅极(7),所述的栅极(7)采用三种不同功函数的导电金属制作,形成三材料异质栅结构的黑磷场效应管的异质栅;在位于源区(2)和漏区(3)之上的栅极氧化层(4)上分别刻蚀一源极引线孔和漏极引线孔,在该源极引线孔内制备源极(5),在漏极引线孔内制备漏极(6)。
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