[发明专利]一种抗磨类金刚石涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201810263024.4 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108359942B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 廖斌;欧阳晓平;张旭;吴先映;左帅;韩然;刘建武;杨晓峰;罗军;庞盼 | 申请（专利权）人： | 北京师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/58;C23C14/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100875 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种类金刚石涂层的制备方法，包括以下步骤：S1：利用气体离子源对基体表面进行高低能交替清洗；S2：以碳靶为阴极，利用磁过滤沉积技术在所述基体上进行类金刚石涂层的沉积；该方法沉积速率高，成本低，能实现大批量生产；S3：利用激光器对类金刚石涂层进行表面刻蚀，刻蚀间隔为2‑10微米；S4：利用气体离子源对图形化类金刚石膜进行表面处理。采用该方法制备的涂层为四面体非晶形碳高sp3和低sp3含量交替变化结构；该涂层具备高耐磨损性能，比含氢类金刚石、高sp3含量类金刚石以及低sp3含量类金刚石具备更高的抗裂纹生长能力以及抗摩擦磨损性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抗磨类 金刚石 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种类金刚石涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：利用气体离子源对基体表面进行高低能交替清洗；S2：以碳靶为阴极，利用磁过滤沉积技术在所述基体上进行类金刚石涂层的沉积；S3：利用激光器对类金刚石涂层进行表面刻蚀图形化；S4：利用气体离子源对图形化类金刚石膜进行表面处理。
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