[发明专利]一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备在审

专利信息
申请号: 201810263233.9 申请日: 2018-03-28
公开(公告)号: CN108411249A 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 廖良生;黄稳;武启飞 申请(专利权)人: 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;H01L51/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备,属于OLED真空蒸镀装备领域。本发明的目的是解决现有装置设备复杂,工作效率低下的问题。本发明的基片样品架包括支撑架和基片架,通过在支撑架上设置一组凸台,使基片架下方可形成一用于掩模板架放入的操作空间,以便于快速更换掩模板。本发明还公开一种掩模板更换方法,首先将实际作业位置的掩模板架与基片架置于暂存位置;然后更换掩模板;最后将基片架与掩模板架重新对位并放置于实际作业位置。本发明还公开一种基片更换方法,首先将掩模板置于基片架上,再将基片从基片架上取出更换,再将掩模版与基片架重新对位,放置于作业位置。本发明可以应用于半导体器件的薄膜沉积等制程。
搜索关键词: 掩模板 基片架 基片更换 基片样品 作业位置 蒸镀设备 重新对位 支撑架 真空蒸镀装备 半导体器件 薄膜沉积 操作空间 工作效率 快速更换 现有装置 掩模版 放入 凸台 暂存 制程 取出 应用
【主权项】:
1.一种基片样品架,包括:支撑架、基片架,其特征在于,所述支撑架上设置有第一对位结构,所述基片架上设置有第二对位结构,所述第二对位结构可与所述第一对位结构相配合,可使所述基片架与所述支撑架对位;所述支撑架上设置有至少一凸台,用于支撑所述基片架。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏集萃有机光电技术研究所有限公司,未经江苏集萃有机光电技术研究所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810263233.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top