[发明专利]一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备在审
申请号: | 201810263233.9 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108411249A | 公开(公告)日: | 2018-08-17 |
发明(设计)人: | 廖良生;黄稳;武启飞 | 申请(专利权)人: | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;H01L51/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215200 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基片样品架、掩模板及基片更换方法及蒸镀设备,属于OLED真空蒸镀装备领域。本发明的目的是解决现有装置设备复杂,工作效率低下的问题。本发明的基片样品架包括支撑架和基片架,通过在支撑架上设置一组凸台,使基片架下方可形成一用于掩模板架放入的操作空间,以便于快速更换掩模板。本发明还公开一种掩模板更换方法,首先将实际作业位置的掩模板架与基片架置于暂存位置;然后更换掩模板;最后将基片架与掩模板架重新对位并放置于实际作业位置。本发明还公开一种基片更换方法,首先将掩模板置于基片架上,再将基片从基片架上取出更换,再将掩模版与基片架重新对位,放置于作业位置。本发明可以应用于半导体器件的薄膜沉积等制程。 | ||
搜索关键词: | 掩模板 基片架 基片更换 基片样品 作业位置 蒸镀设备 重新对位 支撑架 真空蒸镀装备 半导体器件 薄膜沉积 操作空间 工作效率 快速更换 现有装置 掩模版 放入 凸台 暂存 制程 取出 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基片样品架,包括:支撑架、基片架,其特征在于,所述支撑架上设置有第一对位结构,所述基片架上设置有第二对位结构,所述第二对位结构可与所述第一对位结构相配合,可使所述基片架与所述支撑架对位;所述支撑架上设置有至少一凸台,用于支撑所述基片架。
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