[发明专利]一种同质外延生长氮化铝单晶的方法在审
申请号: | 201810269558.8 | 申请日: | 2018-03-29 |
公开(公告)号: | CN108624954A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 吴亮;贺广东;黄嘉丽;雷丹;王智昊;王琦琨;龚加玮;黄毅 | 申请(专利权)人: | 苏州奥趋光电技术有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/40 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙仿卫;刘鑫 |
地址: | 215699 江苏省苏州市张家港市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种同质外延生长氮化铝单晶的方法,将用于生长氮化铝单晶的氮化铝籽晶直接放在坩埚底部,将氮化铝原料放在坩埚中上部,倒置原料区和生长区,避免了传统籽晶粘接工艺带来的粘接剂层有气泡、籽晶表面污染等缺点。在升温阶段,控制生长区温度大于原料区温度,即T2>T1,并短时保温,进一步清除掉籽晶表面污染及损伤层;在晶体生长阶段,保持低压及特定温差,使T1>T2,保证了较大传质速率以及晶体生长速率;在降温阶段,再次控制生长区温度大于原料区温度,即T2>T1,有效的抑制了后期的二次形核,提高了晶体的生长质量。 | ||
搜索关键词: | 氮化铝单晶 生长区 原料区 同质外延生长 籽晶表面 氮化铝 籽晶 坩埚 晶体生长阶段 降温阶段 晶体生长 升温阶段 粘接剂层 倒置 生长 晶体的 损伤层 传质 次形 粘接 温差 保温 污染 保证 | ||
【主权项】:
1.一种同质外延生长氮化铝单晶的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将氮化铝籽晶放入坩埚中,并在所述坩埚中放入氮化铝原料,氮化铝籽晶所在的区域为生长区,氮化铝原料所在的区域为原料区,原料区位于生长区的上方,将所述坩埚放入炉体中,对所述炉体抽真空,接着向所述炉体中通入高纯氮气,保持所述炉体中的氮气气压为60‑100Kpa,原料区的温度为T1,生长区的温度为T2,加热所述坩埚,同时对生长区和原料区进行升温,在此过程中保持T2>T1;(2)保持所述炉体中的氮气气压为60‑100Kpa,加热所述坩埚,使T2升至2000‑2300℃,在此过程中保持T2>T1,控制两者之间的温差为50‑200℃;保温一段时间;(3)保持所述炉体中的氮气气压为60‑100Kpa,对生长区和原料区同时进行升温,当T2升至2100‑2400℃时,此时T1>T2,控制两者之间的温差为50‑200℃;(4)抽取所述炉体中的高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为30‑60Kpa,保持 T2为2100‑2400℃,T1>T2,两者之间的温差为50‑200℃;保温一段时间;(5)向所述炉体中通入高纯氮气,使所述炉体中的氮气气压为60‑100Kpa,对生长区和原料区同时进行降温,使T2>T1,在T2下降至1000℃之前,控制两者之间的温差为50‑200℃。
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