[发明专利]基于畴壁密度来存储数据的非破坏读取铁电多逻辑态存储单元及写/读/擦除操作方法有效

专利信息
申请号: 201810270329.8 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN108550551B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 侯鹏飞;刘云霞;王金斌;钟向丽;郭红霞;杨琼 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/11502;G11C16/16
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫
地址: 411105 湖南*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供一种铁电多逻辑态存储单元及其读/写/擦除操作方法,采用氧化物电极夹持铁电外延铁电薄膜,同时金属电极穿过氧化物电极与外延铁电薄膜接触,通过控制写入电压脉冲来控制铁电薄膜内部电畴的成核以及铁电畴壁的运动,使得形成的铁电畴壁从金属电极与铁电薄膜接触位置向四周运动;通过改变电压脉冲方向来翻转电畴,产生新畴壁并使其向外运动;通过控制电压脉冲控制畴壁运动距离,使得畴壁之间不会相互影响。这种结构设计能够控制铁电薄膜中电畴成核的位置,并能通过脉冲电压的作用时间控制铁电畴壁的运动位置,能够有效提高铁电畴壁位置的控制以及存储单元中存储数据的稳定性,促进多逻辑态铁电畴壁存储器件的应用。
搜索关键词: 基于 密度 存储 数据 破坏 读取 铁电多 逻辑 单元 擦除 操作方法
【主权项】:
1.一种铁电多逻辑态存储单元,包括依次堆叠的第一下电极(112)、下介电层(1222)(1221)、下介电层(1222)、第二下电极(132)、铁电薄膜层(140)、第二上电极(131)、上介电层(1211)、上介电层(1212)、第一上电极(111),其特征在于,下介电层(1222)(1221)和下介电层(1222)为一个整体,第一下电极(112)从下介电层(1222)中间穿过,上介电层(1211)和上介电层(1212)为一个整体,第一上电极(111)从上介电层中间穿过;其中,第一下电极(112)穿过下介电层(1221和1222)与第二下电极(132)相连接,第一上电极(111)穿过上介电层(1211)和上介电层(1212)与第二上电极(131)相连接;其中,第一下电极(112)与第二下电极(132)相连接的面积小于第二下电极(132)的面积;其中,第一上电极(111)与第二上电极(131)相连接的面积小于第二上电极(131)的面积。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭大学,未经湘潭大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810270329.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top