[发明专利]光阻涂覆性能的检测方法在审
| 申请号： | 201810272335.7 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108508014A | 公开（公告）日： | 2018-09-07 |
| 发明（设计）人： | 李华青;刘智敏 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/84 | 分类号： | G01N21/84;G01N21/88;G01N21/956 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光阻涂覆性能的检测方法，将涂覆了光阻的衬底放置进光刻机中，所述光刻机的对准系统检测所述图形的灰阶度，得到所述图形的灰阶度波形，再对所述灰阶度波形进行一阶求导，以得到所述灰阶度波形的一阶倒数波形，再通过所述一阶倒数波形能够得到所述衬底的对比度，所述衬底的对比度能够整体反应出所述衬底上涂覆的光阻的好坏，进而判断所述衬底上涂覆的光阻是否合格，由于所述图形的灰阶度是由所述光刻机提供的，而在所述衬底上涂覆光阻后必然是需要通过所述光刻机进行曝光的，在不增加工艺流程及时间的基础上，能够及时的检测出所述衬底上涂覆的光阻是否有缺陷，进而避免了产品报废，提高了器件的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 光阻 灰阶度 涂覆 光刻机 检测 涂覆性能 一阶 倒数 产品报废 对准系统 一阶求导 工艺流程 良率 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种光阻涂覆性能的检测方法，其特征在于，所述光阻涂覆性能的检测方法包括：提供衬底，所述衬底上涂覆有光阻，所述衬底中形成有图形；将所述衬底放置进光刻机中，所述光刻机的对准系统检测所述图形的灰阶度，得到所述图形的灰阶度波形；对所述灰阶度波形进行一阶求导，以获取所述灰阶度波形的一阶倒数波形；根据所述一阶倒数波形得到所述衬底的对比度，通过比较所述衬底的对比度与一阈值的大小以判断所述衬底上涂覆的光阻是否合格。
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