[发明专利]一种利用石墨烯作为保护层制备TEM样品的方法有效
| 申请号： | 201810272364.3 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108871890B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 高鹏;刘秉尧;窦志鹏;陈召龙;刘忠范 | 申请（专利权）人： | 北京大学 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/44 |
| 代理公司： | 北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360 | 代理人： | 张肖琪 |
| 地址： | 100871*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用转移或利用化学气相沉积直接生长的石墨烯作为保护层制备TEM样品的方法，其主要特点是将石墨烯转移到或者直接生长到需要制备TEM样品的材料表面，利用石墨烯来避免所需观察的材料在样品制备过程中造成的损伤与污染，并得到含有石墨烯保护层的TEM样品，若此保护层不影响实验观察，可将其直接放入透射电镜观察，若想除掉这层保护层，则在高温下(550℃)煅烧一段时间(2h)将其除去即可。本发明对于结构完整、零损伤TEM样品的制作具有重大意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 石墨 作为 保护层 制备 tem 样品 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用石墨烯作为保护层制备TEM样品的方法，其特征在于，将石墨烯转移到或利用化学气相沉积直接生长到所需制备TEM样品的材料表面，利用石墨烯来避免所需观察的材料在样品制备过程中造成的表面损伤与污染，并通过手工磨样、离子束减薄或者利用Fib(聚焦离子‑电子双束系统)得到含有石墨烯保护层的TEM样品，若此保护层不影响实验观察，可将其直接放入透射电镜观察，若想除掉这层保护层，则在高温下(550℃)煅烧一段时间(2h)将其除去即可。
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