[发明专利]抗蚀剂用共聚物以及抗蚀剂用组合物在审
| 申请号： | 201810272754.0 | 申请日： | 2014-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN108484822A | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 加藤圭辅;安田敦;安斋龙一;前田晋一 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F220/28;C08F220/42;G03F7/023;G03F7/039 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 李晓 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种抗蚀剂用共聚物，使用该抗蚀剂用共聚物时，灵敏度良好，形成的抗蚀剂图案的形状良好，抗蚀剂图案作为掩膜进行干蚀刻时的耐干蚀刻性良好，能够控制对基板进行干蚀刻加工时形成的图案的表面粗糙度。该抗蚀剂用共聚物具有基于具有金刚烷环等的环烃基、及与该环烃基键合的2个以上氰基的(甲基)丙烯酸酯衍生物的结构单元(1)、具有内酯骨架和桥环结构的结构单元(2)和具有酸离去基团的结构单元(3)。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 共聚物 抗蚀剂图案 干蚀刻 环烃基 丙烯酸酯衍生物 表面粗糙度 耐干蚀刻性 金刚烷环 内酯骨架 桥环结构 灵敏度 对基板 键合 氰基 掩膜 图案 加工 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂用共聚物，其特征在于，具有：下述式(4‑1)表示的结构单元、由下述结构单元m1以及下述结构单元m2组成的群组中选择的一种以上的结构单元，和选自下述式(8‑1)～式(8‑10)表示的具有酸离去基团的结构单元；![]()
式(4‑1)中，R41表示氢原子或甲基；![]()
R表示氢原子或甲基。
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