[发明专利]可校正遮蔽区的深度图产生装置有效
| 申请号： | 201810274283.7 | 申请日： | 2018-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN108696739B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 李季峰 | 申请（专利权）人： | 钰立微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H04N13/327 | 分类号： | H04N13/327;H04N13/271 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可校正遮蔽区的深度图产生装置。所述深度图产生装置包含至少二图像获取对和一深度图产生器。所述至少二图像获取对是用以获取多个图像。所述深度图产生器耦接于所述至少二图像获取对，用以根据所述多个图像产生一第一深度图以及一第二深度图，其中当所述第一深度图包括一遮蔽区及一非遮蔽区时，所述深度图产生器根据所述第二深度图校正所述遮蔽区。因此，相较于现有技术，因为本发明是利用一相对应有效区校正(或取代)所述遮蔽区，所以本发明可有效解决一深度图出现所述遮蔽区的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 校正 遮蔽 深度 产生 装置 | ||
【主权项】：
1.一种可校正遮蔽区的深度图产生装置，其特征在于包含：至少二图像获取对，用以获取多个图像；及一深度图产生器，耦接于所述至少二图像获取对，用以根据所述多个图像产生一第一深度图以及一第二深度图，其中当所述第一深度图包括一第一遮蔽区及一第一非遮蔽区时，所述深度图产生器根据所述第二深度图校正所述第一遮蔽区。
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