[发明专利]一种用于有机硅、多晶硅生产除尘方法及其生产系统有效
| 申请号： | 201810281279.3 | 申请日： | 2018-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN108434910B | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 孙明华;尚文君;王兆民;王宇光;李全;谷新春 | 申请（专利权）人： | 江苏金牛环保工程设备有限公司;中国化学赛鼎宁波工程有限公司 |
| 主分类号： | B01D50/00 | 分类号： | B01D50/00 |
| 代理公司： | 无锡市天宇知识产权代理事务所(普通合伙) 32208 | 代理人： | 周舟 |
| 地址： | 214200 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种用于有机硅、多晶硅生产除尘方法及其生产系统，包括以下步骤：首先将具有气相物料和固相硅粉及催化剂的从有机硅或多晶硅流化床反应器排出的合成气通过干式除尘装置进行干式除尘，然后将干式除尘后的合成气排入洗涤装置进行湿法除尘，干式除尘装置内的温度控制在250℃~350℃，干式除尘后的合成气的固体颗粒物的直径≤1um。能够有效除去有机硅、多晶硅高温合成气中的固体颗粒，减少高沸物的损失，解决常规干式除尘过程中小颗粒无法去除及除尘器使用寿命短问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 有机硅 多晶 生产 除尘 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于有机硅、多晶硅生产除尘方法，包括以下步骤：首先将具有气相物料和固相硅粉及催化剂的从有机硅或多晶硅流化床反应器排出的合成气通过干式除尘装置进行干式除尘，然后将干式除尘后的合成气排入洗涤装置进行湿法除尘，其特征在于干式除尘装置内的温度控制在250℃~350℃，干式除尘后的合成气的固体颗粒物的直径≤1um。
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