[发明专利]使用热转印膜制备有机发光二极管的方法在审

专利信息
申请号: 201810284121.1 申请日: 2018-04-02
公开(公告)号: CN110289359A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 施宏欣 申请(专利权)人: 谦华科技股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52;H01L51/00
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是有关一种使用热转印膜制备有机发光二极管的方法,藉由热转印的技术,加热转印热转印膜上的第一转印层至基板上。以改善传统制备有机发光二极管的真空蒸镀制程中的复杂制程,以及真空蒸镀过后,基板上只能保留不到50%材料,因而材料的使用效率不高的问题。
搜索关键词: 有机发光二极管 热转印膜 制备 真空蒸镀 热转印 基板 制程 使用效率 转印层 保留
【主权项】:
1.一种使用热转印膜制备有机发光二极管的方法,其特征在于,其步骤包含:取一热转印膜,该热转印膜的结构由上往下依序为一耐热层、一基底层、一功能层及一第一转印层;取一基板,该基板放置于该热转印膜的下方;以及加热该热转印膜并转印该第一转印层于该基板,同时移除该耐热层、该基底层及该功能层。
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