[发明专利]一种基于元素成像的超导纳米线均匀性分析的方法有效
| 申请号： | 201810288730.4 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108535305B | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 贾小氢;周晓颖;涂学凑;张蜡宝;康琳;吴培亨 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G01N23/2276 | 分类号： | G01N23/2276 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 210093 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于元素成像对超导纳米线进行均匀性分析的方法，包括以下步骤：制备需要进行均匀性分析的纳米线条样品；对选定区域选定元素进行AES元素成像；将所得元素分布强度信息导入MATLAB；对所得信息进行横向分析，标定纳米线过渡区宽度参数；对所得信息进行纵向分析，标定纳米线边缘粗糙度参数。本发明提出了标定纳米线均匀性的参数，并通过实例说明给出了详细的分析方法，所得均匀性分析结果与实际超导纳米线制备情况相符，为判别超导纳米线质量提供了直观的标准。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 元素 成像 导纳 米线 均匀 分析 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于元素成像的超导纳米线均匀性分析的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)超导纳米线样品制备制备超导纳米线样品；(2)AES元素成像使用俄歇电子谱对选定纳米线区域进行扫描元素成像，获得元素峰值强度数据；(3)MATLAB数据分析根据俄歇电子谱元素成像所得数据，利用MATLAB软件绘制元素强度分布图；(4)纳米线条边缘过渡区参数标定在垂直于纳米线条方向，通过计算确认各元素过渡区宽度；(5)纳米线条边缘粗糙度参数标定在平行于纳米线条方向，通过计算获得竖直方向上纳米线条边缘的均匀性分析信息，从而标定纳米线条边缘粗糙度。
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