[发明专利]一种曝光图案的补正方法和装置、曝光设备有效
| 申请号： | 201810291281.9 | 申请日： | 2018-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN108519726B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 周鹏;蒋迁;孟令剑;章旭 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光图案的补正方法和装置、曝光设备，涉及显示面板制作领域，用于避免现有通过更换掩膜板的方式来减小彩膜基板曝光图案的TP设计值与实际值差异时成本较高的问题。补正方法包括：根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到工作台相对于掩膜板的补偿设计坐标；根据补偿设计坐标控制工作台相对于掩膜板移动。第一测量尺寸为形成曝光图案后测得的曝光图案的尺寸，第二测量尺寸为在形成曝光图案后、在衬底基板上形成其他图案后测得的曝光图案的尺寸，设计尺寸为曝光图案的设计尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 图案 补正 方法 装置 设备 | ||
【主权项】：
1.一种曝光图案的补正方法，其特征在于，包括：根据衬底基板上的曝光图案的至少一个第一测量尺寸、相对应的第二测量尺寸、相对应的设计尺寸、阈值系数对工作台相对于掩膜板的原设计坐标进行补偿，以得到所述工作台相对于所述掩膜板的补偿设计坐标；所述工作台用于支撑所述衬底基板；根据所述补偿设计坐标控制所述工作台相对于所述掩膜板移动；其中，所述衬底基板上的曝光图案是所述工作台相对于所述掩膜板位于所述原设计坐标对应的位置处的情况下形成的，所述第一测量尺寸为形成所述曝光图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述第二测量尺寸为在形成所述曝光图案后、在所述衬底基板上形成其他图案后测得的所述曝光图案的尺寸，所述设计尺寸为所述曝光图案的设计尺寸。
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