[发明专利]表面处理铜箔、附载体铜箔、积层体、印刷配线板的制造方法及电子机器的制造方法有效
申请号: | 201810292331.5 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN108697006B | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 大理友希;新井英太;三木敦史;福地亮 | 申请(专利权)人: | JX金属株式会社 |
主分类号: | H05K3/38 | 分类号: | H05K3/38;H05K1/09;C25D7/06 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及表面处理铜箔、附载体铜箔、积层体、印刷配线板的制造方法及电子机器的制造方法。提供一种表面处理铜箔,其良好地抑制了设置在铜箔表面的粗化粒子层中的粗化粒子的脱落,且良好地抑制了和绝缘基板贴合时产生皱褶、条纹的情况。本发明的表面处理铜箔是在铜箔的一个表面和/或两个表面设置了粗化处理层,并且粗化处理层侧表面的粗糙度Ra为0.08μm以上且0.20μm以下,表面处理铜箔的粗化处理层侧表面的TD的光泽度为70%以下。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 铜箔 载体 积层体 印刷 线板 制造 方法 电子 机器 | ||
【主权项】:
1.一种表面处理铜箔,其具有铜箔、和位于所述铜箔的至少一个表面或两个表面的粗化处理层,所述表面处理铜箔的所述粗化处理层侧表面的粗糙度Ra为0.08μm以上且0.20μm以下,所述表面处理铜箔的所述粗化处理层侧表面的TD的光泽度为70%以下。
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