[发明专利]超宽禁带Zrx 有效
申请号: | 201810293770.8 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN108396288B | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 何云斌;黎明锴;程阳;张腾;卢寅梅;张清风;常钢;李派;陈俊年 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/28;C23C14/24;C23C14/18;H01L31/09 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立;冯瑛琪 |
地址: | 430062 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
本发明属于半导体光电材料与器件技术领域,具体涉及一种带隙可调的超宽禁带Zr |
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搜索关键词: | 超宽禁带 zr base sub | ||
【主权项】:
1.一种超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)制备陶瓷靶材,所述陶瓷靶材由陶瓷坯片烧结而成,所述陶瓷坯片包含ZrO2和SnO2;2)采用脉冲激光沉积法将步骤1)得到的陶瓷靶材物质沉积在c面蓝宝石衬底上制备生长外延薄膜,得到超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料,其中x为0.01~0.99。
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