[发明专利]超宽禁带Zrx有效

专利信息
申请号: 201810293770.8 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108396288B 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 何云斌;黎明锴;程阳;张腾;卢寅梅;张清风;常钢;李派;陈俊年 申请(专利权)人: 湖北大学
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/28;C23C14/24;C23C14/18;H01L31/09
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 杨立;冯瑛琪
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于半导体光电材料与器件技术领域,具体涉及一种带隙可调的超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料及其制备方法和其在深紫外光探测方面的应用。该方法包括以下步骤:1)制备陶瓷靶材,所述陶瓷靶材由陶瓷坯片烧结而成,所述陶瓷坯片包括ZrO2和SnO2;2)采用脉冲激光沉积法将步骤1)得到的陶瓷靶材物质沉积在c面蓝宝石衬底上制备生长外延薄膜,得到超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料,其中x为0.01~0.99。本发明以SnO2作为探测器的基质材料,并且通过对纯的SnO2进行掺杂以调节其带隙的大小,使其带隙能够达到深紫外波长段光探测的要求。
搜索关键词: 超宽禁带 zr base sub
【主权项】:
1.一种超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:1)制备陶瓷靶材,所述陶瓷靶材由陶瓷坯片烧结而成,所述陶瓷坯片包含ZrO2和SnO2;2)采用脉冲激光沉积法将步骤1)得到的陶瓷靶材物质沉积在c面蓝宝石衬底上制备生长外延薄膜,得到超宽禁带ZrxSn1‑xO2合金半导体外延薄膜材料,其中x为0.01~0.99。
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