[发明专利]半导体器件有效

专利信息
申请号: 201810295185.1 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN108695323B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 裵德汉;李炯宗;金炫珍 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L21/8238;H01L23/528;H10B10/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括鳍型有源图案中的源/漏区、与源/漏区相邻的栅结构以及源/漏区和栅结构上的绝缘层。共享接触插塞穿透绝缘层,并且包括连接到源/漏区的第一下部、连接到栅结构的第二下部以及连接到第一下部和第二下部的上表面的上部。插塞间隔物膜位于第一下部和第二下部中的至少一个与绝缘层之间,并且包括与绝缘层的材料不同的材料。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件,包括:鳍型有源图案中的源/漏区;与源/漏区相邻的栅结构;源/漏区和栅结构上的绝缘层;穿透绝缘层的共享接触插塞,所述共享接触插塞包括连接到源/漏区的第一下部、连接到栅结构的第二下部以及连接到第一下部和第二下部的上表面的上部;以及插塞间隔物膜,在第一下部和第二下部中的至少一个与绝缘层之间,所述插塞间隔物膜包括与绝缘层的材料不同的材料。
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