[发明专利]一种多阴极连续镀膜腔室有效
| 申请号： | 201810306898.3 | 申请日： | 2018-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN110344018B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 李建银 | 申请（专利权）人： | 北京七星华创集成电路装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/16;C23C14/04;H01F41/18 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 101312 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种多阴极连续镀膜腔室，其腔室壁围成镀膜空间，被加工件在传送装置的带动下沿工艺路径在所述镀膜空间内移动，所述多阴极连续镀膜腔室包括多个阴极组件和至少一个冷却组件，所述阴极组件和所述冷却组件沿着所述工艺路径在所述被加工件的上方依次交替设置，以对所述被加工件交替进行溅射和冷却。传送装置带动被加工件经过镀膜空间时，依次进行溅射‑冷却‑溅射‑冷却‑溅射的交替过程，实现在连续镀膜过程中，每个阴极组件对基体溅射镀膜后走到冷却组件下部对其降温，降温后下一个阴极组件再对其溅射镀膜，然后再降温，可以实现边镀膜边降温的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阴极 连续 镀膜 | ||
【主权项】：
1.一种多阴极连续镀膜腔室，其腔室壁围成镀膜空间，被加工件在传送装置的带动下沿工艺路径在所述镀膜空间内移动，其特征在于，所述多阴极连续镀膜腔室包括多个阴极组件和至少一个冷却组件，所述阴极组件和所述冷却组件沿着所述工艺路径在所述被加工件的上方依次交替设置，以对所述被加工件交替进行溅射和冷却。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京七星华创集成电路装备有限公司，未经北京七星华创集成电路装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810306898.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
