[发明专利]一种聚合物基纳米复合材料及基于其的滤光片有效
| 申请号： | 201810309621.6 | 申请日： | 2018-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN110358237B | 公开（公告）日： | 2021-01-01 |
| 发明（设计）人： | 钟海政;朱晓秀 | 申请（专利权）人： | 致晶科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C08L33/12 | 分类号： | C08L33/12;C08L27/08;C08L55/02;C08L31/04;C08K5/17;C08K3/16;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 王惠 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种聚合物基纳米复合材料及基于其的滤光片，所述聚合物基纳米复合材料的组分包括聚合物基质和半导体材料；所述聚合物基纳米复合材料在至少一个波长范围内光平均透过率大于90％，至少在一个截止范围内的截止深度小于OD2。所述基于聚合物基纳米复合材料的滤光片具有截止陡度大、峰值透过率高(＞90％)、截止深度大的优点，可以实现透过波长和透过光强度连续可调，通过原位制备的方式获得，制备工艺简单，对设备的要求低，原料价格低廉，生产成本低，稳定性好、厚度薄(20μm)、柔韧性好，有利于实现器件的轻量化、小型化、柔性加工，便于集成。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 纳米 复合材料 基于 滤光 | ||
【主权项】：
1.一种聚合物基纳米复合材料，其特征在于，所述聚合物基纳米复合材料的组分包括聚合物基质和半导体材料；所述聚合物基纳米复合材料在至少一个波长范围内光平均透过率大于90％，在至少一个截止范围内的截止深度小于OD2。
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