[发明专利]一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法有效

专利信息
申请号: 201810311375.8 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108535952B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 马旭;王志强 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36;G03F7/20
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 高会允;仇蕾安
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法,能够提高OPC方法的计算速度和收敛性能。其技术方案包括:将梯度迭代算法进行展开和截断,构建基于模型驱动的卷积神经网络MCNN。基于光刻系统的成像模型构建与MCNN相对应的解码器。将MCNN与解码器首尾相连,对MCNN进行如下训练:采用反向传播算法优化MCNN中的各项参数,使得MCNN的输入数据与解码器的输出数据之间的误差最小化。训练结束后,将解码器与MCNN网络分离。将待优化的电路版图输入至训练后的MCNN,获得OPC掩模的估计结果。以OPC掩模估计结果为初始值,采用梯度迭代算法对掩模进行设定次数的迭代更新,获得最终的OPC掩模优化结果。
搜索关键词: 一种 基于 模型 驱动 卷积 神经网络 计算 光刻 方法
【主权项】:
1.一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法,其特征在于,包括:将梯度迭代算法进行展开和截断,构建基于模型驱动的卷积神经网络MCNN;所述MCNN的输入数据为待优化的电路版图,MCNN的输出数据为光学邻近效应校正OPC优化的掩模图形;基于光刻系统的成像模型构建与MCNN相对应的解码器;所述解码器的输入数据为OPC优化的掩模图形,解码器的输出数据为对应于OPC优化的掩模图形的光刻系统成像;将MCNN与解码器首尾相连,对所述MCNN进行如下训练:采用反向传播算法优化MCNN中的各项参数,使得所述MCNN的输入数据与所述解码器的输出数据之间的误差最小化;训练结束后,将所述解码器与所述MCNN网络分离;将待优化的电路版图输入至训练后的所述MCNN,获得OPC优化掩模的估计结果;以所述OPC优化掩模的估计结果为初始值,采用梯度迭代算法对掩模进行设定次数的迭代更新,获得最终的OPC掩模优化结果。
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