[发明专利]一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法有效
申请号: | 201810311375.8 | 申请日: | 2018-04-09 |
公开(公告)号: | CN108535952B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 马旭;王志强 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 高会允;仇蕾安 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法,能够提高OPC方法的计算速度和收敛性能。其技术方案包括:将梯度迭代算法进行展开和截断,构建基于模型驱动的卷积神经网络MCNN。基于光刻系统的成像模型构建与MCNN相对应的解码器。将MCNN与解码器首尾相连,对MCNN进行如下训练:采用反向传播算法优化MCNN中的各项参数,使得MCNN的输入数据与解码器的输出数据之间的误差最小化。训练结束后,将解码器与MCNN网络分离。将待优化的电路版图输入至训练后的MCNN,获得OPC掩模的估计结果。以OPC掩模估计结果为初始值,采用梯度迭代算法对掩模进行设定次数的迭代更新,获得最终的OPC掩模优化结果。 | ||
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【主权项】:
1.一种基于模型驱动卷积神经网络的计算光刻方法,其特征在于,包括:将梯度迭代算法进行展开和截断,构建基于模型驱动的卷积神经网络MCNN;所述MCNN的输入数据为待优化的电路版图,MCNN的输出数据为光学邻近效应校正OPC优化的掩模图形;基于光刻系统的成像模型构建与MCNN相对应的解码器;所述解码器的输入数据为OPC优化的掩模图形,解码器的输出数据为对应于OPC优化的掩模图形的光刻系统成像;将MCNN与解码器首尾相连,对所述MCNN进行如下训练:采用反向传播算法优化MCNN中的各项参数,使得所述MCNN的输入数据与所述解码器的输出数据之间的误差最小化;训练结束后,将所述解码器与所述MCNN网络分离;将待优化的电路版图输入至训练后的所述MCNN,获得OPC优化掩模的估计结果;以所述OPC优化掩模的估计结果为初始值,采用梯度迭代算法对掩模进行设定次数的迭代更新,获得最终的OPC掩模优化结果。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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