[发明专利]用于电路辐射效应仿真的辐射模型嵌入方法及仿真方法在审

专利信息
申请号: 201810311857.3 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN108536959A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 陈静;许灵达;柴展;王硕 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于电路辐射效应仿真的辐射模型嵌入方法及仿真方法,包括:获取标准MOS商用静态模型文件;获取建立好的MOS总剂量辐射模型,将所述MOS总剂量辐射模型转换为受控辐射电压源模型及受控侧壁晶体管辐射电流源模型;将所述受控辐射电压源模型及所述受控侧壁晶体管辐射电流源模型的子电路写入所述标准MOS商用静态模型文件中,以构建MOS总剂量辐射模型的电路拓扑结构;将所述MOS总剂量辐射模型以子电路的形式嵌入所述标准MOS商用静态模型文件中,以形成含辐射效应的MOS模型;调用所述含辐射效应的MOS模型进行电路辐射效应仿真。本发明简化了辐射仿真过程,方便电路设计人员直接调用,且适用于Hspice和Spectre仿真器,普适性高。
搜索关键词: 辐射 总剂量辐射 受控 静态模型 商用 嵌入 电流源模型 电路 电压源 子电路 晶体管 侧壁 电路拓扑结构 电路设计 仿真过程 模型转换 直接调用 仿真器 普适性 调用 构建 写入
【主权项】:
1.一种用于电路辐射效应仿真的辐射模型嵌入方法,其特征在于,所述用于电路辐射效应仿真的辐射模型嵌入方法至少包括:获取标准MOS商用静态模型文件;获取建立好的MOS总剂量辐射模型,将所述MOS总剂量辐射模型转换为受控辐射电压源模型及受控侧壁晶体管辐射电流源模型;将所述受控辐射电压源模型及所述受控侧壁晶体管辐射电流源模型的子电路写入所述标准MOS商用静态模型文件中,以构建MOS总剂量辐射模型的电路拓扑结构;将所述MOS总剂量辐射模型以子电路的形式嵌入所述标准MOS商用静态模型文件中,以形成含辐射效应的MOS模型。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810311857.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top