[发明专利]一种复杂目标对背景光辐射的二次散射计算方法有效
申请号: | 201810315511.0 | 申请日: | 2018-04-10 |
公开(公告)号: | CN108829906B | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 李良超;李奎 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G06F30/20 | 分类号: | G06F30/20;G01S7/41;G01S13/00 |
代理公司: | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人: | 程晓霞;王品华 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种复杂目标对背景光辐射的二次散射计算方法,解决了复杂目标面元对之间二次散射的判断、面元对之间散射面积计算及复杂目标的二次散射计算的问题。其实现为:建立目标模型;输入所建目标的MOD模型信息并进行遮挡处理;对遮挡处理后的目标面元对间进行二次散射初次判断;转换坐标系并计算面元对间的散射面积;完成复杂目标的二次散射。本发明先找出可能发生二次散射的面元对,通过转换坐标将空间中的面元对投影到转换坐标系的XOY平面内,将三维问题转化为二维,简化了运算,降低了程序复杂性,通过得到的散射面积利用BRDF求得面元对间的二次散射亮度,及整个复杂目标对背景光辐射的二次散射亮度,用于海面、空间和地面复杂目标的精确检测。 | ||
搜索关键词: | 一种 复杂 目标 背景 光辐射 二次 散射 计算方法 | ||
【主权项】:
1.一种复杂目标对背景光辐射的二次散射计算方法,其特征在于,包括有以下步骤:步骤一:建立目标模型:通过3dmax建立目标的3dmax模型,然后将建立的3dmax目标模型转换为MOD模型;MOD模型分为五部分组成,第一部分为模型格式识别信息、面元数和顶点数;第二部分为面元索引值、部件索引值、材质索引值、色彩索引值和顶点的索引值;第三部分为顶点索引和点的坐标值;第四部分为部件索引值和部件类型名称;第五部分为材质索引值和材质名称。步骤二:输入目标的MOD模型信息:首先利用几何方法对模型进行自遮挡处理,然后针对自遮挡处理后的目标MOD模型中的所有面元,将面元之间的遮挡利用Z‑BUFFER消隐算法处理,Z‑BUFFER消隐算法通过将入射方向或散射方向为Z轴建立笛卡尔三维坐标系,把目标MOD模型投影到这个坐标系中,把投影后的目标MOD模型在XOY平面内划分为若干个像素,像素的个数应该远大于模型的面元数,根据像素在坐标系中的位置信息,保存所有像素中未被其他像素遮挡的像素信息,最后通过保存的像素信息即可以得到目标MOD模型所有面元中每个面元未被遮挡的面元面积大小,如果面元被遮挡的面积小于一半则认为这个面元未被遮挡,否则认为面元被遮挡;最后在目标MOD模型中去除所有的遮挡面元,得到未被遮挡的目标MOD模型;对未被遮挡的目标MOD模型面元进行二次散射计算;步骤三:目标面元对之间二次散射初次判断:对未被遮挡的目标MOD模型所有面元遍历依次作为初始面元即面元1和剩余面元之间进行判断,如果可能发生二次散射,则这两个面元组成一个面元对,执行步骤四,进行坐标系转换,并计算这个面元对之间的二次散射,面元对包含面元1和面元2;如果未发生二次散射则重复执行步骤三,进行下一个面元对的二次散射初次判断;步骤四:坐标系转换:以太阳作为入射光为例,要计算目标对太阳的二次散射,通过太阳入射方向计算得到太阳光照射到面元1上的镜像散射方向,以镜像散射方向为Z轴建立新坐标系,将该新坐标系定义为S坐标系,S坐标系仍然为笛卡尔三维坐标系,把面元对投影到S坐标系的XOY平面内;步骤五:计算面元对之间的散射面积:在步骤四建立的S坐标系中,在X0Y平面内投影面元之间的位置关系有相交、分离和包含,保存面元线段之间所有的交点和互相包含的点,然后去除重复点,如果剩余的点的个数小于3,则证明不能形成闭合面积,即不能发生二次散射;否则对剩余各点找出Y值最小的点设为MinP,依次计算出其他各点相对于MinP的张角大小,根据张角大小对各点进行排序,最后对排好序的点进行多边形面积计算;步骤六:计算并完成复杂目标的二次散射:根据双向反射分布函数(BRDF)求出面元1上的镜像散射亮度大小,通过辐亮度和辐照度之间的转换关系,得到面元2接收到的辐照度,然后根据步骤五求出的相交面积大小求出面元对上面元1和面元2的散射面积大小,最后根据面元2上的双向反射分布函数(BRDF),对面元之间的二次散射进行计算,进而完成复杂目标的二次散射计算。
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