[发明专利]耐玻璃侵蚀的连续熔制坩埚及熔制方法有效

专利信息
申请号: 201810316850.0 申请日: 2018-04-10
公开(公告)号: CN108455824B 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 杨爱清;徐光以;霍金龙;许佩琪;金煜博 申请(专利权)人: 湖北新华光信息材料有限公司
主分类号: C03B5/235 分类号: C03B5/235;C04B35/66;C04B35/10
代理公司: 42217 襄阳嘉琛知识产权事务所 代理人: 严崇姚
地址: 441057 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明的名称为耐玻璃侵蚀的连续熔制坩埚及熔制方法,属于光学玻璃熔炼生产设备技术领域。它主要是解决氟磷酸盐熔化时对铂金埚壁侵蚀的问题。它的主要特征是:坩埚包括陶瓷材质耐侵筒,耐侵筒设有密封槽及埚盖,耐侵筒从铂金埚入料端口伸入,下端至液面以下,铂金埚底部设有连通管或漏料管;方法包括
搜索关键词: 铂金 熔制 坩埚 玻璃侵蚀 氟磷玻璃 加料 连通管 漏料管 密封槽 下端 埚盖 光学玻璃 熔化 设备技术领域 氟磷酸盐 连续熔炼 熔炼生产 入料端口 陶瓷材质 液面升高 玻璃液 玻璃渣 良品率 密封液 熔炼 预热 出炉 粉料 加注 伸入 液面 埚壁 淹没 侵蚀
【主权项】:
1.一种耐玻璃侵蚀的连续熔制坩埚,用于氟磷玻璃熔制,包括铂金埚(1),其特征在于:还包括耐侵筒(4);所述耐侵筒(4)为陶瓷材质,包括与铂金埚(1)入料端口配合的直立筒体,筒体上端外侧设有密封槽及配合的埚盖(6);所述耐侵筒(4)从铂金埚(1)入料端口伸入,密封槽位于入料端口外,筒体下端至液面(2)以下;所述铂金埚(1)底部设有连通管(8)或漏料管(9);所述耐侵筒(4)的陶瓷材料成分组成中Al
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