[发明专利]一种发光二极管支架工艺区保护方法在审
| 申请号： | 201810318314.4 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN108550678A | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 何海营 | 申请（专利权）人： | 佛山市潽森电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/48 | 分类号： | H01L33/48;H01L23/00 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 陈娟 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区桂城街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种发光二极管支架工艺区保护方法，该发光二极管支架工艺区保护方法具体步骤如下：将光致或其他材料涂覆在发光二极管支架上，在发光二极管工艺区周围增加一个保护带，防止封装后外界物质通过封装缝隙侵入工艺区。本发明采用光致或其他材料，可以将发光二极管支架的工艺区与发光二极管支架外边沿之间形成一个阻挡带，避免外界物质对发光二极管的工艺区电路的侵蚀，大大提高二极管的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 发光二极管支架 工艺区 其他材料 外界物质 封装 发光二极管工艺 发光二极管 二极管 使用寿命 保护带 外边沿 阻挡带 涂覆 电路 侵入 侵蚀 | ||
【主权项】：
1.一种发光二极管支架工艺区的保护方法，具体步骤如下：S1：光致或者其他材料的涂覆：在发光二极管支架制作时，增加光致或其他材料的涂覆，涂覆形状为环形或者带形，使得发光二极管支架工艺区处于环形区域或者带形区域内。
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