[发明专利]一种基于光子晶体的磁场温度双参量传感器在审

专利信息
申请号: 201810320487.X 申请日: 2018-04-11
公开(公告)号: CN108693489A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: 施伟华;陈伟;徐雪影 申请(专利权)人: 南京邮电大学;南京邮电大学南通研究院有限公司
主分类号: G01R33/032 分类号: G01R33/032;G01K11/32
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董建林
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于光子晶体的磁场温度双参量传感器,包括由高折射率介质层与低折射率介质层形成的一维周期性结构、缺陷层和金属膜层;所述缺陷层穿插在一维周期性结构中间,缺陷层上表面和下表面均与低折射率介质层接触;金属膜层在最外层,覆盖在高折射率介质层外表面;所述高折射率介质层为TiO2层,低折射率介质层为Al2O3层,缺陷层为水基Fe3O4磁流体,金属膜层为银金属层;缺陷层、高折射率介质层、低折射率介质层、金属膜层沿Z轴方向排列,排列顺序为(HL)5MF(LH)5‑Ag。本发明提供的磁场温度双参量传感器,灵敏度高、抗干扰、结构简单、体积小、质量轻,能实现磁场和温度的分别测量。
搜索关键词: 缺陷层 低折射率介质层 高折射率介质层 金属膜层 磁场 双参量传感器 周期性结构 光子晶体 方向排列 银金属层 抗干扰 灵敏度 磁流体 上表面 体积小 下表面 最外层 穿插 测量 覆盖
【主权项】:
1.一种基于光子晶体的磁场温度双参量传感器,其特征在于:包括由高折射率介质层与低折射率介质层形成的一维周期性结构、缺陷层和金属膜层;所述缺陷层穿插在一维周期性结构中间,缺陷层上表面和下表面均与低折射率介质层接触;金属膜层在最外层,覆盖在高折射率介质层外表面。
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