[发明专利]一种电阻测量方法及电阻测量装置有效
| 申请号： | 201810321034.9 | 申请日： | 2018-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN108519519B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 宋玉冰;薛静;谷玥 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01R27/08 | 分类号： | G01R27/08 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电阻测量方法及电阻测量装置，用于测量绝缘层的过孔位置的阻值，绝缘层的第一侧形成有第一导电图形，绝缘层的第二侧形成有第二导电图形；第一导电图形和第二导电图形通过所述绝缘层的过孔连接。其中，电阻测量方法包括：向第一导电图形施加第一电压和第一电流，向第二导电图形施加第二电压；其中，第二电压的电压值小于所述第一电压的电压值；第一电流在第一导电图形上经所述过孔传递至所述第二导电图形以形成第二电流；测量所述第二导电图形上的第二电流；根据所述第一电压与第二电压的电压差值以及第二电流的电流值计算所述过孔位置的阻值。本发明的方案能够测量过孔位置的阻值，可用于评估过孔位置的制作工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电阻 测量方法 测量 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电阻测量方法，用于测量绝缘层的过孔位置的阻值，所述绝缘层的第一侧形成有第一导电图形，所述绝缘层的第二侧形成有第二导电图形；所述第一导电图形和所述第二导电图形通过所述绝缘层的过孔连接；其特征在于，所述电阻测量方法包括：向所述第一导电图形施加第一电压和第一电流，向所述第二导电图形施加第二电压；其中，所述第二电压的电压值小于所述第一电压的电压值；所述第一电流在所述第一导电图形上经所述过孔传递至所述第二导电图形以形成第二电流；测量所述第二导电图形上的第二电流；根据所述第一电压与第二电压的电压差值以及第二电流的电流值计算所述过孔位置的阻值。
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