[发明专利]一种锗基底宽光谱红外增透光学窗口有效

专利信息
申请号: 201810322890.6 申请日: 2018-04-11
公开(公告)号: CN108627889B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 赵中亮 申请(专利权)人: 上海欧菲尔光电技术有限公司
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 梁永昌
地址: 200080 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种锗基底宽光谱红外增透光学窗口,该光谱红外增透光学窗口增透膜使用了锗(Ge)、硫化锌(ZnS)和氟化镱(YbF3)为不同折射率的膜层材料,锗基底上的一种长波红外增透膜,其结构为:在基底(2)的一面沉积正面膜系(1),在基底的另一面沉积结构相同的反面膜系(3)。使用离子源辅助沉积与合适的基底烘烤温度等特定工艺条件,在基底的两个表面分别沉积8层非规整的膜层。该增透膜元件可以使得在7.5~14.0μm区间具有良好的透光效果,平均透过率>96%。Ge晶体是一种优质的高折射率红外材料,广泛应用于各种红外滤光片,该增透膜可以有效提高非制冷红外焦平面探测器的光学效率,在宽光谱应用方面呈现出明显优势。
搜索关键词: 一种 基底 光谱 红外 透光 窗口
【主权项】:
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