[发明专利]磺酸盐类阴离子表面活性剂的三氧化硫和硫酸去除方法和装置在审
| 申请号： | 201810324798.3 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN110372546A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 蔡熙扬;卢志敏;潘鹤潮;沈平;陈武渊;赵建红 | 申请（专利权）人： | 广州市浪奇实业股份有限公司;广州市日用化学工业研究所有限公司 |
| 主分类号： | C07C303/44 | 分类号： | C07C303/44;C07C309/03;C07C309/20;C07C309/30;C07C309/17;C07C309/22;B01D15/22;B01D15/20 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 罗毅萍;李国钊 |
| 地址： | 510660 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磺酸盐类阴离子表面活性剂的三氧化硫和硫酸去除方法。其对经过磺化工艺处理得到的磺酸盐类阴离子表面活性剂产物进行微孔材料吸附处理，以去除产物中的三氧化硫及硫酸；其中，所述微孔材料的孔径为0.40‑0.45nm的微孔材料。所述微孔材料负载有氯化钴晶体、或硫酸铜晶体、或硫酸镍晶体。所述微孔材料负载有氯化钴晶体、或硫酸铜晶体、或硫酸镍晶体。本发明还公开了实现该方法的装置。本发明能有效去除磺酸盐类阴离子表面活性剂的磺化产物中30‑70％的无机酸或无机盐，提高产品的总活性物含量。本发明用于磺酸盐类阴离子表面活性剂的生产工艺中，不影响其产能，而且设备投入费用和生产成本较低。 | ||
| 搜索关键词： | 磺酸盐类阴离子表面活性剂 微孔材料 三氧化硫 硫酸镍晶体 硫酸铜晶体 硫酸去除 氯化钴 去除 方法和装置 无机盐 工艺处理 磺化产物 设备投入 活性物 无机酸 产能 磺化 吸附 生产工艺 硫酸 生产成本 | ||
【主权项】：
1.磺酸盐类阴离子表面活性剂的三氧化硫和硫酸去除方法，其特征在于，对经过磺化工艺处理得到的酸性磺化物进行微孔材料吸附处理，以去除产物中的三氧化硫及硫酸；其中，所述微孔材料的孔径为0.40‑0.45nm的微孔材料。
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