[发明专利]一种适用于柔性基材的光学薄膜及其制作方法在审
| 申请号： | 201810324857.7 | 申请日： | 2018-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN108300977A | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 潘振强;朱惠钦 | 申请（专利权）人： | 广东振华科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C14/35;G02B1/10;G09F9/30 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 曹爱红 |
| 地址： | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于柔性基材制备光学薄膜领域，具体公开一种适用于柔性基材的光学薄膜及其制作方法。该光学薄膜，包括基材、过渡层和光学薄膜层。其制备方法，其具体步骤是：(1)抽真空至本底真空；(2)化学气相沉积法形成氧化硅过渡层；(3)磁控溅射法形成光学薄膜层；(4)光学薄膜制备完成。该光学薄膜较好的结合化学气相沉积工艺和磁控光学镀膜工艺，通过该复合镀膜工艺，可以提高光学薄膜与塑料柔性薄膜基材的结合力，既可以实现光学薄膜在塑料基材的制备，为光学薄膜的使用或进一步加工创造有利条件；又可以提高磁控溅射制备光学薄膜的批量化生产，增加经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 光学薄膜 制备 柔性基材 化学气相沉积 光学薄膜层 过渡层 基材 光学薄膜制备 塑料柔性薄膜 磁控溅射法 本底真空 磁控溅射 复合镀膜 光学镀膜 塑料基材 抽真空 结合力 批量化 氧化硅 磁控 制作 加工 生产 | ||
【主权项】：
1.一种适用于柔性基材的光学薄膜，其特征在于：包括基材、过渡层和光学薄膜层。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
