[发明专利]电光学装置、显示装置在审
| 申请号： | 201810329119.1 | 申请日： | 2018-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN108732844A | 公开（公告）日： | 2018-11-02 |
| 发明（设计）人： | 加藤惠介 | 申请（专利权）人： | 斯坦雷电气株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/155 | 分类号： | G02F1/155 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成;孟伟青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及电光学装置、显示装置，提供一种能够适当地用作可见性优异的反射型显示装置的电光学装置。本发明的电光学装置包含：在一面侧具有第1电极的第1基板、在一面侧具有第2电极且与第1基板对置配置的第2基板、以及含有电沉积材料且被配置在第1电极与第2电极之间的电解质层，第1电极和第2电极分别在与电解质层相接的一面侧具有凹凸形状，第1电极的一面侧的表面粗糙度Ra为0.4μm以上，第2电极的一面侧的表面粗糙度Ra为0.02μm以上、且为相对小于第1电极的表面粗糙度的值。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 电光学装置 表面粗糙度Ra 电解质层 显示装置 第1基板 反射型显示装置 表面粗糙度 电沉积材料 凹凸形状 对置配置 第2基板 可见性 配置 | ||
【主权项】：
1.一种电光学装置，其中，该装置包含：第1基板，其在一面侧具有第1电极；第2基板，其在一面侧具有第2电极，与所述第1基板对置配置；以及电解质层，其含有电沉积材料，被配置在所述第1电极与所述第2电极之间；所述第1电极和所述第2电极分别在与所述电解质层相接的一面侧具有凹凸形状；所述第1电极的一面侧的表面粗糙度Ra为0.4μm以上；所述第2电极的一面侧的表面粗糙度Ra为0.02μm以上、且为相对小于所述第1电极的表面粗糙度的值。
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