[发明专利]一种半导体材料用研磨抛光装置在审
| 申请号： | 201810330358.9 | 申请日： | 2018-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN108214279A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 陈花贵 | 申请（专利权）人： | 长兴浙蕨科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/00 | 分类号： | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 313100 浙江省湖*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体材料用研磨抛光装置，包括研磨台、研磨盘、旋转电机，所述研磨台下设置有支撑腿，所述研磨台上设置有启动键，所述启动键旁设置有横凸台，所述横凸台旁设置有纵凸台，所述研磨台后设置有立柱，所述立柱上设置有轨道槽，所述轨道槽内壁上设置有齿条，所述轨道槽内设置有齿轮，所述齿轮后设置有升降电机，所述升降电机后设置有支撑横梁，所述支撑横梁上设置有所述旋转电机，所述旋转电机下设置有传动轴。有益效果在于：本发明利用上下移动研磨盘使半导体材料整体统一受力，避免了由于半导体材料研磨时线性受力而产生的不均匀条纹，提高了半导体材料研磨抛光的均匀性，提高了半导体材料研磨抛光的整体质量。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体材料 旋转电机 研磨 轨道槽 凸台 研磨抛光装置 升降电机 研磨抛光 支撑横梁 启动键 研磨盘 研磨台 齿轮 立柱 上下移动 线性受力 不均匀 传动轴 均匀性 支撑腿 条纹 齿条 内壁 受力 统一 | ||
【主权项】：
1.一种半导体材料用研磨抛光装置，其特征在于：包括研磨台（1）、研磨盘（3）、旋转电机（6），所述研磨台（1）下设置有支撑腿（8），所述研磨台（1）上设置有启动键（9），所述启动键（9）旁设置有横凸台（4），所述横凸台（4）旁设置有纵凸台（2），所述研磨台（1）后设置有立柱（7），所述立柱（7）上设置有轨道槽（14），所述轨道槽（14）内壁上设置有齿条（15），所述轨道槽（14）内设置有齿轮（13），所述齿轮（13）后设置有升降电机（11），所述升降电机（11）后设置有支撑横梁（12），所述支撑横梁（12）上设置有所述旋转电机（6），所述旋转电机（6）下设置有传动轴（5），所述传动轴（5）下设置有所述研磨盘（3），所述研磨盘（3）下设置有研磨布（10）。
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