[发明专利]用于制备分子束外延束流源料锭的区熔坩埚及料锭在审
| 申请号： | 201810331623.5 | 申请日： | 2018-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN108707964A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 王丛;孙书奎 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | C30B25/08 | 分类号： | C30B25/08;C30B28/08 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 张然 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备分子束外延束流源料锭的区熔坩埚及料锭，所述区熔坩埚的型腔包括柱状型腔体和底座，所述柱状型腔体的形状与束流坩埚内腔形状相同；或者，所述柱状型腔体的形状与将束流坩埚的内腔沿轴向中心线均匀切割后的切割体形状相同；所述柱状型腔体的半径小于所述束流坩埚的内腔半径。本发明区熔坩埚制备的料锭实现了增大束流坩埚的装料量，同时提高了束流稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 束流 坩埚 柱状型腔 料锭 分子束外延 内腔 源料 制备 轴向中心线 坩埚内腔 坩埚制备 切割体 装料量 底座 切割 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备分子束外延束流源料锭的区熔坩埚，其特征在于，所述区熔坩埚的型腔包括柱状型腔体和底座，所述柱状型腔体的形状与束流坩埚内腔形状相同；或者，所述柱状型腔体的形状与将束流坩埚的内腔沿轴向中心线均匀切割后的切割体形状相同；所述柱状型腔体的半径小于所述束流坩埚的内腔半径。
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