[发明专利]投影光学系统以及投影装置有效

专利信息
申请号: 201810335281.4 申请日: 2018-04-16
公开(公告)号: CN108732725B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 增井淳雄;井上和彦;松浦农 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B13/16 分类号: G02B13/16;G02B15/177;H04N5/74
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 孙蕾
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供投影光学系统及具备投影光学系统的投影装置。投影光学系统是从放大侧起具有第1、第2光学系统的单焦点透镜或变焦透镜。第1光学系统从放大侧起包含第1A光学系统和第1B光学系统,在第1A光学系统与第1B光学系统间具有光路折弯用平面镜。投影光学系统在为单焦点透镜时在无限远对焦状态下及在为变焦透镜时在最短焦距状态下的无限远对焦状态下,满足0.18Ta/Tw0.4,1fa/|fw|15(Ta:第1A光学系统中从最靠放大侧的透镜面至最靠缩小侧的透镜面的轴上距离,Tw:投影光学系统中从最靠放大侧的透镜面至最靠缩小侧的透镜面的轴上距离,fa:第1A光学系统的焦距,fw:投影光学系统整体的焦距)。
搜索关键词: 投影 光学系统 以及 装置
【主权项】:
1.一种投影光学系统,对显示于图像显示面的图像进行放大投影,其特征在于,所述投影光学系统是从放大侧起依次包含第1光学系统和第2光学系统的单焦点透镜或者变焦透镜,所述第2光学系统在所述第1光学系统与第2光学系统之间形成所述图像的中间像,所述第1光学系统对所述中间像进行放大投影,所述第1光学系统从放大侧起依次包含第1A光学系统和第1B光学系统,且在所述第1A光学系统与所述第1B光学系统之间具有光路折弯用的反射光学元件,在为所述单焦点透镜的情况下在无限远对焦状态下满足以下的条件式(1)以及(2),在为所述变焦透镜的情况下在最短焦距状态下的无限远对焦状态下满足以下的条件式(1)以及(2),0.18
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