[发明专利]一种全碳忆阻器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810339076.5 申请日: 2018-04-16
公开(公告)号: CN108682738B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 诸葛飞;竺臻楠;俞家欢;曹鸿涛 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种全碳忆阻器,自下而上依次包括衬底、石墨烯底电极层、氧化石墨烯中间介质层和石墨烯顶电极层。还公开了其制备方法,包括:(1)采用抽滤法在衬底上制备石墨烯底电极层;(2)采用抽滤法在石墨烯底电极层上转移氧化石墨烯中间介质层;(3)采用抽滤法在氧化石墨烯中间介质层上转移石墨烯顶电极层。本发明通过低温溶液法制备全碳忆阻器,大大降低了制备忆阻器的成本,且工艺简单,适合大规模工业化生产。
搜索关键词: 一种 全碳忆阻器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种全碳忆阻器的制备方法,其特征在于,包括:(1)采用抽滤法在衬底上制备石墨烯底电极层;(2)采用抽滤法在石墨烯底电极层上转移氧化石墨烯中间介质层;(3)采用抽滤法在氧化石墨烯中间介质层上转移石墨烯顶电极层。
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