[发明专利]隧道补偿超晶格红外探测器有效
申请号: | 201810340023.5 | 申请日: | 2018-04-16 |
公开(公告)号: | CN108538935B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 邓军;李超慧;徐晨;李建军;孙伟业;韩军 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/109 |
代理公司: | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 王灿 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了隧道补偿超晶格红外探测器,属于半导体光电子领域。原有的隧道补偿多有源区红外探测器改善了传统多量子阱或超晶格结构红外探测器的光电流小,暗电流大的缺点,但制作难度较大,成品率低。在衬底上生长下接触层,然后生长一个或多个基本单元,上接触层,制作台面和电极,基本单元依次为阻挡势垒、超晶格红外吸收区、重掺杂N型区和重掺杂P型区;特征在于采用超晶格结构作为探测器的红外吸收区,降低了对外延结构参数的控制要求;重掺杂N型区和重掺杂P型区形成隧道结,为超晶格提供隧道补偿电流;阻挡势垒厚度为30~50nm,以减小器件的暗电流。本发明兼具隧道补偿多有源区红外探测器光电流大、暗电流低、响应速度快等优点。 | ||
搜索关键词: | 隧道 补偿 晶格 红外探测器 | ||
【主权项】:
1.隧道补偿超晶格红外探测器,其特征在于:依次在衬底上生长N型下接触层(4)、生长阻挡层(9)、超晶格吸收区(10)、重掺杂N型区(11)和重掺杂P型区(12),超晶格吸收区(10)由GaAs/AlGaAs材料按照一定的周期结构生长多对;根据探测器性能的要求重复生长生长阻挡层(9)、超晶格吸收区(10)、重掺杂N型区(11)和重掺杂P型区(12)以提升器件的性能,最后外延上接触层(2);采用半导体工艺制作台面,并在该台面的上下制作上金属电极(1)和下金属电极(5);采用超晶格结构代隧道补偿多有源区红外探测器的n+‑GaAs势阱作为红外吸收区,分离隧道结耗尽区和红外吸收区。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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