[发明专利]一种金属掩膜版在审
申请号: | 201810340969.1 | 申请日: | 2018-04-17 |
公开(公告)号: | CN108330439A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 曹阿江 | 申请(专利权)人: | 湖州博立科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 | 代理人: | 李大刚 |
地址: | 313009 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种金属掩膜版,包括基体(1),基体(1)上设有通孔(2),通孔(2)和基体(1)的上表面的交线为上开口(3),通孔(2)和基体(1)的下表面的交线为下开口(4),上开口(3)的面积大于下开口(4)面积;上开口(3)相对于下开口(4)向外的偏移距离大于基体(1)的厚度。本发明具有薄膜成型后图案不发生偏移、图案边界清晰的特点。 | ||
搜索关键词: | 上开口 下开口 通孔 金属掩膜 交线 薄膜成型 偏移距离 图案边界 偏移 上表面 下表面 图案 清晰 | ||
【主权项】:
1.一种金属掩膜版,其特征在于:包括基体(1),基体(1)上设有通孔(2),通孔(2)和基体(1)的上表面的交线为上开口(3),通孔(2)和基体(1)的下表面的交线为下开口(4),上开口(3)的面积大于下开口(4)面积;上开口(3)相对于下开口(4)向外的偏移距离大于基体(1)的厚度。
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