[发明专利]一种大尺寸Rb0.5RhO2或Cs0.5RhO2晶体的生长方法在审

专利信息
申请号: 201810343203.9 申请日: 2018-04-17
公开(公告)号: CN108531974A 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 姚淑华;林大钧;吕洋洋;陈思思;陈延彬;陈延峰 申请(专利权)人: 南京大学
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/22
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 李媛媛
地址: 210023 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种大尺寸Rb0.5RhO2或Cs0.5RhO2晶体的生长方法。该方法首先按照一定的质量比例,分别称取Rh2O3和助熔剂Cs2CO3或者Rh2O3和助熔剂Rb2CO3,用研钵研磨混匀后至于干净的氧化铝坩埚中;然后采用助熔剂法生长:先将温度升高到100℃,并维持8小时后,继续升温至1000℃或900℃,然后按照5℃/h的速率分别降温至800℃或700℃,最后自然冷却到室温,采用高纯水溶解助熔剂,烘干之后即可分别获得高质量大尺寸的Rb0.5RhO2或者Cs0.5RhO2单晶体。本发明的晶体生长方法具有生长设备简单、成本低廉、可获得高质量晶体等优点。
搜索关键词: 助熔剂 晶体的 生长 氧化铝坩埚 晶体生长 生长设备 研磨 单晶体 高纯水 烘干 称取 混匀 研钵 溶解
【主权项】:
1.一种大尺寸Rb0.5RhO2或Cs0.5RhO2晶体的生长方法,其特征在于,所述Rb0.5RhO2晶体的生长方法包括如下步骤:(1)原料配制:称取一定量的Rh2O3和助熔剂Rh2O3,用研钵研磨混匀后至于干净的氧化铝坩埚中,所述Rh2O3和助熔剂Rh2O3的质量比范围为1:20~1:60;(2)晶体生长:将配制好的生长原料置于生长装置中采用助熔剂法生长,首先将温度升高到100℃,并维持8小时后,继续升温至1000℃,然后按照5℃/h的速率降温至800℃,最后再自然冷却到室温,采用高纯水溶解所述助熔剂Rh2O3,烘干之后即可获得高质量大尺寸的Rb0.5RhO2单晶体。
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