[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810343205.8 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN108573956B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 刘军;苏同上;程磊磊;方金钢;丁录科;周斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/552 | 分类号： | H01L23/552;H01L27/12;H01L21/84 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板，包括薄膜晶体管和遮光层，所述薄膜晶体管包括有源层，所述有源层具有相对的顶面和底面，所述遮光层包括遮光底壁和遮光侧壁，所述遮光侧壁的底端与所述遮光底壁相连，所述遮光底壁与所述有源层的底面相对设置，所述遮光侧壁环绕所述有源层。相应地，本发明还提供一种阵列基板的制作方法和显示装置。本发明能够减少有源层受到的光照，提高薄膜晶体管的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，包括薄膜晶体管和遮光层，所述薄膜晶体管包括有源层，所述有源层具有相对的顶面和底面，其特征在于，所述遮光层包括遮光底壁和遮光侧壁，所述遮光侧壁的底端与所述遮光底壁相连，所述遮光底壁与所述有源层的底面相对设置，所述遮光侧壁环绕所述有源层。
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