[发明专利]掩膜版曝光偏移量检测方法、装置、计算机和存储介质有效
| 申请号： | 201810344684.5 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN108762005B | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 陆书鑫;方金波;仝建军;李伟界;黄伟东;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 叶剑 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种掩膜版曝光偏移量检测方法、装置、计算机和存储介质。所述方法包括：获取第一对位标的两个边的第一位置参数，获取与所述第一对位标对应的两个第二对位标的第二位置参数，其中，所述第一对位标位于两个所述第二对位标之间；根据两个所述第一位置参数和两个所述第二位置参数，计算获得偏移量。通过获取两个第一位置参数和两个第二位置参数，从而计算获得偏移量，从而有效提高了掩膜版曝光偏移量的检测精度以及检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 曝光 偏移 检测 方法 装置 计算机 存储 介质 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版曝光偏移量检测方法，其特征在于，包括：获取第一对位标的两个边的第一位置参数，获取与所述第一对位标对应的两个第二对位标的第二位置参数，其中，所述第一对位标位于两个所述第二对位标之间；根据两个所述第一位置参数和两个所述第二位置参数，计算获得偏移量。
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