[发明专利]基于力密度法的低栅瓣索网天线机电综合设计方法有效

专利信息
申请号: 201810346620.9 申请日: 2018-04-18
公开(公告)号: CN108268747B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 宗亚雳;张双喜;王布宏;高一凡;刘蕴哲;熊文俊;江山;刘超 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06F30/10
代理公司: 西安吉盛专利代理有限责任公司 61108 代理人: 江琴贤
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于雷达天线技术领域,具体是一种基于力密度法的低栅瓣索网天线机电综合设计方法,本发明由于仅以索单元的力密度和分环数为变量,对索网天线反射面的几何形状进行设计,并以栅瓣电平极小化为目标,通过约束其它电性能和结构性能指标,实现了低栅瓣索网天线的机电综合设计。
搜索关键词: 基于 密度 低栅瓣索网 天线 机电 综合 设计 方法
【主权项】:
1.基于力密度法的低栅瓣索网天线机电综合设计方法,其特征是:至少包括如下步骤:(1)输入初始的天线索网结构分环数N,计算索单元个数b;(2)根据索单元个数b,输入各个索单元力密度qi(i=1,2,...,b);(3)基于力密度法原理,结合已知的索网边界节点坐标[Xf,Yf,Zf]T,计算反射面上索网节点位置坐标[X,Y,Z]T,其中T表示向量或矩阵的转置;(4)依据步骤(3)获取的节点位置坐标[X,Y,Z]T和索网边界节点坐标[Xf,Yf,Zf]T,采用Delaunay三角剖分算法形成节点的拓扑连接关系,据此构造天线反射面S;(5)已知从馈源发出的入射电场Ein和入射磁场Hin,计算索网天线的远场E=EPO+EPTD,其中EPO为反射面S上的感应电流对应的辐射场,EPTD为反射面边缘C上绕射电流引起的辐射场;(6)根据远场E绘制该远场方向图F,从远场方向图F中提取天线增益G、第一副瓣电平SLL及栅瓣电平GLL的电性能指标值;(7)根据步骤(2)中的索单元力密度值qi,计算索单元张力ti;(8)依据索单元张力ti获取索网天线结构性能指标:网面最大张力tmax和最小张力tmin,计算索单元张力比τ;(9)依据上述步骤给出的电性能指标值和结构性能指标,判断最大场强增益G、第一副瓣电平SLL及栅瓣电平GLL,以及索单元最大张力tmax、最小张力tmin和张力比τ结构性能指标是否满足要求;(10)如果满足,则给出步骤得到的分环数和力密度结构参数;(11)否则,调整步骤(1)中的分环数N和步骤(2)中的索单元力密度qi(i=1,2,...,b),并重复步骤(3)到步骤(11),直至满足天线电性能和结构性能要求。
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