[发明专利]一种新型制药设备的检漏装置

摘要

本发明公开了一种新型制药设备的检漏装置，包括装置主体，装置主体的底部设置有滚轮，装置主体的表面中部嵌入有检漏仪槽，检漏仪槽的内部设置有检漏仪，检漏仪的表面设置有检漏仪开关，检漏仪的内部分别固定有挡板阀和滤网，装置主体的表面顶部固定有真空管绕柱，装置主体的顶部一侧固定有固定柱，固定柱的顶部连接有真空管，以氦气作为示漏气体，氦的质量轻，运动速度快，分子直径小，在同等条件下，直线运动的距离长，可以对制药设备的微小漏隙进行准备的定位、定量和定性，灵敏性极高，可以精准的测量出制药设备的漏率及位置，并且性能稳定，成本较低，利用质谱室检测，效率很高。

主权项

1.一种新型制药设备的检漏装置，包括装置主体（1），其特征在于：所述装置主体（1）的底部设置有滚轮（2），所述装置主体（1）的表面中部嵌入有检漏仪槽（3），所述检漏仪槽（3）的内部设置有检漏仪（4），所述检漏仪（4）的表面设置有检漏仪开关（12），所述检漏仪（4）的内部分别固定有挡板阀（19）和滤网（20），所述装置主体（1）的表面顶部固定有真空管绕柱（22），所述装置主体（1）的顶部一侧固定有固定柱（5），所述固定柱（5）的顶部连接有真空管(6)，所述真空管（6）的另一侧连接有检漏仪（4），所述装置主体（1）的顶部中间设置有旋转柱（7），所述旋转柱（7）的顶部固定有控制台（8），所述控制台（8）的一侧设置有开关（9），所述装置主体（1）的一侧上方固定有握把（10），所述装置主体（1）的一侧下方设置有降温风口（11），所述装置主体（1）的内部固定有质谱室（14），所述质谱室（14）的底部固定有冷阴极电离真空计（18），所述冷阴极电离真空计（18）的顶部固定有收集器（17），所述收集器（17）的顶部固定有分析器（16），所述分析器（16）的顶部固定有离子源（15），所述质谱室（14）的顶部固定有真空磊（13），所述装置主体（1）的底部一侧固定有降温器（21）。