[发明专利]一种可降低外界气流对成像影响的雾屏成像系统及方法有效

专利信息
申请号: 201810348781.1 申请日: 2018-04-18
公开(公告)号: CN108319102B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 黄振鑫;洪诗婕;赵文昊 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G03B21/608 分类号: G03B21/608
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 郁旦蓉
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种可降低外界气流对成像影响的雾屏成像系统及方法,其中,系统包括:雾屏成像溶液形成设备,用于调配用于雾屏成像的成像溶液;气流喷射设备,与雾屏成像溶液形成设备通过用于传输成像溶液的第一液体导管连接,用于形成雾屏;外界环境气流分析设备,用于分析雾屏的外界环境气流;雾屏投影设备,用于向雾屏投影;以及控制设备,与雾屏形成设备、气流喷射设备、外界环境气流分析设备以及雾屏投影设备之间均通过数据传输线连接,用于控制雾屏形成设备、气流喷射设备、外界环境气流分析设备以及雾屏投影设备的工作。本发明解决了雾屏成像容易受外界环境气流影响的问题,且能自动分配最佳的保护方案,还能调整画面质量使其达到最佳效果。
搜索关键词: 一种 降低 外界 气流 成像 影响 系统 方法
【主权项】:
1.一种可降低外界气流对成像影响的雾屏成像系统,用于进行雾屏成像,其特征在于,包括:雾屏成像溶液形成设备,用于调配用于雾屏成像的成像溶液;气流喷射设备,与所述雾屏成像溶液形成设备通过用于传输所述成像溶液的第一液体导管连接,用于形成雾屏,包括用于喷射成像气流形成雾屏的成像气流喷射装置、用于喷射保护气流的保护气流喷射装置以及用于固定所述气流喷射装置和所述保护气流喷射装置的喷射支架;外界环境气流分析设备,用于分析所述雾屏的外界环境气流;雾屏投影设备,用于向所述雾屏投影;以及控制设备,与所述雾屏成像溶液形成设备、所述气流喷射设备、所述外界环境气流分析设备以及所述雾屏投影设备之间均通过数据传输线连接,用于控制所述雾屏成像溶液形成设备、所述气流喷射装置、所述外界环境气流分析设备以及所述雾屏投影设备的工作,其中,所述雾屏成像溶液形成设备包括:第一储液箱,用于储存成像溶剂;第二储液箱,与所述第一储液箱通过第二液体导管连接,用于储存所述成像溶液;第一电液伺服阀,由所述控制设备控制,套设于所述第二液体导管上,用于将所述成像溶剂传输至所述第二储液箱;第三储液箱,与所述第二储液箱通过第三液体导管连接,用于储存成像溶质;以及第二电液伺服阀,由所述控制设备控制,套设于所述第三液体导管上,用于将所述成像溶质传输至所述第三储液箱,从而使得所述成像溶质与所述成像溶剂进行调配形成所述成像溶液。
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