[发明专利]一种基于透射电镜的样品表面结构成像方法

摘要

本发明涉及材料表面结构表征技术领域，公开了一种基于透射电镜的样品表面结构成像方法，包括：制备透射电镜样品；获得样品的低放大倍数图像；获得样品表面结构的高放大倍数图像。该方法通过调节透射电镜物镜焦距来调控物镜取景深度和取景位置，利用物镜取景位置和有限的取景深度来强化样品表面结构信息的同时弱化样品内部结构信息，进而简单、快速并准确的获得真实反应样品表面结构的透射电镜图像，从而有效评价材料或器件的性能。本发明具有实施成本低、效率高、可操控性和重复性强、技术可靠性高等特点，适合于在固体表面研究领域的广泛应用。

主权项

1.一种基于透射电镜的样品表面结构成像方法，其特征在于，所述成像方法包括如下具体步骤：S11、透射电镜样品制备：针对固体状样品采用标准透射电镜样品制备方法来制备所述透射电镜样品；S12、获得透射电镜样品的低放大倍数图像：将所述透射电镜样品放置于透射电镜样品台上，为了方便在高放大倍数下操作所述透射电镜，先将透射电镜的放大倍数设定在1万倍，然后选择合适的样品观察区域，调节物镜焦距使所述透射电镜样品聚焦在物镜的像面，从而获得所述透射电镜样品的低放大倍数图像；S13、获得透射电镜样品表面结构的图像：将所述透射电镜的放大倍数逐渐提高到最高放大倍数档位，调节物镜焦距对所述透射电镜样品聚焦，获得所述透射电镜样品内部结构的高放大倍数图像；接着逐渐减小物镜焦距，使物镜的取景位置发生移动，导致所述透射电镜样品内部结构偏离物镜的取景位置，使所述透射电镜样品内部结构图像逐渐消失，当所述透射电镜样品表面区域位于所述物镜的取景位置且所述透射电镜样品内部区域位于所述物镜取景深度之外时，在所述物镜的像面获得所述透射电镜样品表面结构的图像。