[发明专利]清洗装置及方法,显影系统及方法在审
申请号: | 201810352958.5 | 申请日: | 2018-04-19 |
公开(公告)号: | CN108717251A | 公开(公告)日: | 2018-10-30 |
发明(设计)人: | 沈雪;刘庆超;颜廷彪;柯汎宗;黄志凯 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;B08B3/12;B08B3/08 |
代理公司: | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙) 31292 | 代理人: | 吴靖靓 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明技术方案公开了一种清洗装置及方法,显影系统及方法。所述清洗装置包括:槽体,用于容纳显影装置的喷嘴组件,所述喷嘴组件包括显影液供应及温控腔体和附于所述腔体底部的喷嘴,所述槽体内部具有腔体放置区域和喷嘴清洗区域;盖体,设于所述槽体顶部;传感器,用于感应所述喷嘴以控制所述盖体打开或关闭;风淋端,设于所述腔体放置区域;液体供应端和液体排放端,分别设于所述槽体侧壁对应所述喷嘴清洗区域的位置;以及,排出口和排出端,设于所述槽体底部。本发明技术方案减少了后续显影过程中产生的显影缺陷,提高了产品良率。 | ||
搜索关键词: | 喷嘴 清洗装置 腔体 放置区域 喷嘴组件 清洗区域 显影系统 槽体 盖体 槽体侧壁 槽体顶部 槽体内部 产品良率 显影过程 显影缺陷 显影装置 液体供应 液体排放 排出端 排出口 温控腔 显影液 传感器 风淋 容纳 | ||
【主权项】:
1.一种清洗装置,其特征在于,包括:槽体,用于容纳显影装置的喷嘴组件,所述喷嘴组件包括显影液供应及温控腔体和附于所述腔体底部的喷嘴,所述槽体内部具有腔体放置区域和喷嘴清洗区域;盖体,设于所述槽体顶部;传感器,用于感应所述喷嘴以控制所述盖体打开或关闭;风淋端,设于所述腔体放置区域;液体供应端和液体排放端,分别设于所述槽体侧壁对应所述喷嘴清洗区域的位置;以及,排出口和排出端,设于所述槽体底部。
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