[发明专利]护肤品制剂、其制备方法及其应用在审
申请号: | 201810366285.9 | 申请日: | 2018-04-23 |
公开(公告)号: | CN108619159A | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 蒋良亚 | 申请(专利权)人: | 蒋良亚 |
主分类号: | A61K31/63 | 分类号: | A61K31/63;A61K31/496;A61K31/165;A61K31/573;A61K31/4415;A61P17/04;A61P29/00;A61P17/00;A61P17/02;A61P17/10;A61P37/08;A61P31/02 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 吴啸寰 |
地址: | 401120 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 一种护肤品制剂、其制备方法及其应用,涉及皮肤药剂技术领域。该护肤品制剂包括膏剂基质和以下重量份的原料:0.3‑3份磺胺、3‑15份酮康他索、1‑6份氯霉素、0.001‑0.01份地塞米松以及0.1‑0.2份维生素B6。该护肤品制剂具有止痒、消炎、消痘、祛肿、除疤的作用,且可治疗多种皮肤病,其具有起效快、复发率低、无副作用和后遗症的优点。此外本发明还涉及上述护肤品制剂的制备方法及其应用。 | ||
搜索关键词: | 护肤品 制备 氯霉素 应用 磺胺 膏剂基质 皮肤药剂 消炎 复发率 皮肤病 重量份 除疤 米松 起效 止痒 后遗症 维生素 治疗 | ||
【主权项】:
1.一种护肤品制剂,其特征在于,其包括膏剂基质和以下重量份的原料:
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