[发明专利]通过水解离进行太阳能制氢的混合装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810366607.X 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN108630777B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 理查德·内策尔;周国富 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: H01L31/068 分类号: H01L31/068;C25B1/04;C25B11/04
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 唐致明
地址: 510006 广东省广州市番禺区外*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种将光电阳极与商用硅光伏电池单片集成的混合装置,商用硅光伏电池包括p型硅层和n型硅层,其中p型硅层和n型硅层均具有对应于硅晶体的(100)晶面的主暴露表面,光电阳极包括在p型硅层的(100)晶面上生成的SiNx中间层,在SiNx中间层上外延生长的c面InGaN层,以及在所述InGaN层的暴露表面上生成的InN量子点。该混合装置能够在被可见光或紫外光照射时将水分解成氢和氧。本发明还涉及制造该混合装置的方法。
搜索关键词: 混合装置 暴露表面 光电阳极 中间层 硅光 商用 太阳能制氢 紫外光照射 可见光 电池单片 外延生长 硅晶体 量子点 水分解 水解离 制造 电池
【主权项】:
1.一种将光电阳极与商用硅光伏电池(10)单片集成的混合装置,其特征在于:所述商用硅光伏电池(10)包括p型硅层(11)和n型硅层(12),其中所述p型硅层(11)和n型硅层(12)均具有对应于硅晶体的(100)晶面的主暴露表面,所述光电阳极包括在所述p型硅层(11)的(100)晶面上生成的SiNx中间层(13),在SiNx中间层(13)上外延生长的c面InGaN层(14),以及在所述InGaN层(14)的暴露表面上生成的InN量子点(15)。
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